NTT:基于 SiN 平台的 μ-TP 可调谐薄膜 InP 激光器 Posted on 2025-12-272026-10-17 by 本文要点 今年,华为海思发布了两项基于低损耗 SiN-SOI 平台的高速调制器成果。GlobFoundries、PsiQuantum 和 TSMC 也在多次报告中提到氮化硅工艺的进展。参考:薄膜铌酸锂基础&华为海思的 540Gbps SiN-SOI-TFLN氮化硅的带隙很宽,大约 5.1 eV,而 O 波段光子的能量只有 0.95 eV 左右。 🔒 本文为付费内容 以下为付费部分,单篇解锁后永久可看。 单篇解锁 ¥9.90 支持微信支付 · 支付后自动解锁,无需注册支付有问题请联系客服微信 WaytoICT Category: 付费专栏, 第一期100篇