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作者: 李, 东霏

光模块中的差分驱动&共模抑制

Posted on 2025-09-242026-09-06 by 李, 东霏

越是基础的原理,反而越难写。就拿今天想聊的“差分信号&共模抑制”来说吧,让我一时不知该从何切入。 因为…

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为什么晶圆会有剩余,如何处理?

Posted on 2025-08-262026-09-06 by 李, 东霏

在半导体制造中,硅晶圆作为基础材料,用于批量生产数百至数千个集成电路。不过在量产或原型制作阶段,常常会出现晶圆…

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英伟达路线图上那个颠覆性的词:CoWoP

Posted on 2025-08-262026-09-06 by 李, 东霏

近期,英伟达技术路线图中出现的CoWoP已成为半导体行业的热门话题。那么,它与此前备受关注的CoWoS、CoP…

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RIE如何实现垂直刻蚀?

Posted on 2025-07-232025-08-03 by 李, 东霏

反应离子蚀刻,也叫 RIE (Reactive Ion Etching),是半导体制造中在薄膜上刻出结构的一种…

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李东霏
【香农信息技术研究院】

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CPO OTN 光模块 800G NPO 光纤 硅光 PON DWDM EML VCSEL 400G WDM LPO 50G PON 空芯光纤 光引擎 ROADM 共封装光学 OCS OSNR 光交换机 DFB 调制器 1.6T 全光网 相干技术 光电探测器 光器件与模块 TFLN

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  • 爱吃杨梅的大叔:干货很多,现在这么扎实的技术网站不多见了…

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